作者单位
摘要
华北光电技术研究所,北京 100015
在长波红外波段,InAs/GaSb Ⅱ类超晶格材料具有比碲镉汞材料更优越的性能,因此得到了广泛研究。对InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外探测器芯片的背面减薄技术开展了一系列试验。针对<100>GaSb单晶片进行了单点金刚石机床精密加工、机械化学抛光和化学抛光方法研究,并去除了加工损伤。InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外器件的流片结果表明,长波探测器组件获得了较好的红外成像图片,提高了InAs/GaSb Ⅱ类超晶格长波红外探测器芯片的研制水平。
单点金刚石机床切削 表面形貌 机械化学抛光 长波红外探测器 InAs/GaSb InAs/GaSb single-point diamond turning(SPDT) surface morphology chemical mechanical polishing long-wave infrared detector 
红外
2020, 41(8): 15

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