作者单位
摘要
1 Nanyang Institute of Technology, Nanyang 473004, CHN
2 Key Laboratory of Material Physics of the Ministry of Education of China, Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, CHN
PECVD conventional furnace annealing pulsed rapid thermal annealing 
半导体光子学与技术
2009, 15(2): 117
作者单位
摘要
Key Laboratory of Material Physics for Ministry of Education, Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, CHN
PECVD A-Si: H film Furnace annealing Rapid thermal annealing Grain size 
半导体光子学与技术
2006, 12(1): 15

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