中国工程物理研究院 流体物理研究所， 四川 绵阳 621900
通过理论分析，确定了MeV级多孔网栅的设计目标、拟采用的照相布局及图像接收系统。在此基础上，通过蒙特卡罗模拟和理论分析，确定了网栅的主要参数，包括网栅厚度、孔径与孔间距和W薄片厚度，并研究了加工误差和非理想照相因素对网栅性能的影响，最后给出了原理样机的设计参数。针对原理样机开展了数值模拟，利用模拟图像进行了网栅图像修补与插值等图像预处理工作，初步验证了原理样机在实际应用中的可行性。
MeV级网栅 散射 蒙特卡罗模拟 闪光照相 MeV anti-scatter grid scatter Monte Carlo simulation flash radiography第23卷第8期强激光与粒子束Vol.23 No.8
