1 南京航空航天大学材料科学与技术学院, 江苏 南京 210016
2 南京航空航天大学纳米智能材料器件教育部重点实验室, 江苏 南京 210016
结合传统的混合酸腐蚀法与Ni辅助腐蚀法，在多晶硅表面制备了减反射复合结构。研究了Ni溅射时间对多晶硅表面反射率、形貌以及光致发光性能的影响。用分光光度计测量了多晶硅表面的反射率，用扫描电镜观察了表面形貌，并用光致发光仪测试了表面的光致发光谱。研究发现，经过混合酸腐蚀与Ni辅助腐蚀的共同作用后，在多晶硅表面形成了一种附有细小针柱状微结构的“U”形腐蚀坑的复合结构，理论和实验分析表明这种复合结构具有良好的陷光效果。当溅射Ni的时间为500 s时，双重腐蚀后的多晶硅表面在300~900 nm波长范围内的平均反射率最低，仅为10.1%。
薄膜 光电子学 多晶硅 Ni辅助腐蚀 复合结构 减反射
