为了改善脉冲激光溅射沉积大面积薄膜的均匀性，发展了基片离轴旋转的扫描技术.根据基片离轴旋转的基本原理和等离子体羽空间余弦分布规律，建立了径向膜厚分布公式.数值模拟了各种因素对基片离轴旋转扫描沉积薄膜均匀性的影响.分析表明，优化粒子束中心与基片中心偏置距离、溅射点与基片的距离是改善基片离轴旋转扫描镀膜均匀性的主要途径.同时也考虑了电机转速、镀膜时间和激光重频的影响.通过参量优化，当均匀度要求在95％时，计算得到薄膜的最大半径超过40 mm.
薄膜 基片离轴旋转扫描 均匀性 脉冲激光镀膜 Film Off-axis rotated scan Uniformity Pulse laser deposition(PLD)
