1 中国科学院,理化技术研究所,人工晶体研究与发展中心,北京,100080
2 中国科学院,研究生院,北京,100039
利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1 064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨.实验结果表明:保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO2膜层内缺陷吸收所决定的阈值,显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力.
SiO2内保护层 倍频增透膜 激光损伤阈值 损伤形貌 LiB3O5
