集成成像较小的再现深度一直都限制着集成成像的发展和应用，针对此问题提出了一种增大集成成像再现深度的方法。该方法在微透镜阵列与显示屏之间附加一个光孔阵列，利用光孔阵列限制显示屏上像素发出光线的发散角，从而有效地增大集成成像的再现深度。对集成成像的再现原理进行了深入分析，讨论了光孔直径与集成成像再现深度的关系。采用ASAP光学模拟软件对所提方法和传统方法进行了模拟对比实验，实验结果显示当光孔直径占透镜元节距的64%时，所提方法的再现深度是传统集成成像再现深度的1.5倍，实验结果验证了理论推导的正确性。
成像系统 再现深度 光孔阵列 微透镜阵列 三维显示
