在超大规模集成电路中, 为满足数值孔径为1.35、波长为193 nm的光刻曝光系统45 nm的成像分辨率要求, 设计了一种新型光可变衰减器, 用于控制系统的光能透射率, 调整曝光能量。该衰减器在光入射角为20°~40°时, 衰减面的平均透射率呈线性变化并从95%降低至8%, 同时保证其余三个表面的光能损失均低于1%。设计和制作了光可变衰减器的光学薄膜, 其基底材料选择熔融石英, 膜层材料采用LaF3和AlF3。实验测试了光可变衰减器系统性能, 测试结果显示该系统的光能透射率在8%~90%范围内连续可调, 实验结果满足设计要求。与传统光可变衰减器相比, 该系统可调制衰减范围更大, 衰减量更稳定, 具有一定的应用价值。

薄膜截止滤光片在倾斜入射时不可避免地会产生s和p二个偏振分量的分离，因而在许多应用，特别是光通讯的应用中成为一个棘手的难题。提出了一种新的设计方法，对最常用的45°入射角，实现了长波通和短波通两种截止滤光片的完全消偏振, 在透射率为50%处,其偏振分离分别为0.3 nm和0.1 nm。基本的设计方法是采用宽带法布里珀罗薄膜干涉滤光片中心波长两侧的干涉带作为长波通或短波通截止滤光片的初始膜系,然后经过适当的优化以提高透射带的透射率。宽带干涉滤光片的间隔层常由半波长厚度的高、低折射率混合膜层组成，如2H2L2H或2L2H2L。由于这种设计的截止区和透射带带宽常嫌不足，故提出了展宽截止区和透射带的方法。对一个典型的短波通截止滤光片，在波长1550 nm,截止区和透射带宽均达到了200 nm。这种设计方法不仅简单、性能优良，而且膜厚控制容差较大，故易于制造。