中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室, 四川 成都 610209
针对投影光刻机短波长、大数值孔径、短焦深的特点,讨论了一种基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法。该方法采用三角测量的基本原理,利用双光栅光闸叠栅条纹的光强调制机理,并结合像横向剪切器和光弹调制的光学特性,建立了单个光栅周期内焦面位移量和输出光能量线性关系。其具有非接触、强实时性和高稳健性的特点,经理论分析和模拟测试,达到纳米量级的检测精度,可以满足投影光刻高精度、实时、非接触焦面测量的要求。
光学测量 焦面检测 叠栅条纹 光弹调制 横向剪切分束器