曹晶 1,2杨文河 1,2刘泽旭 1,2陈韫懿 1,2[ ... ]林楠 1,2,*
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室,上海 201800
2 超强激光科学与技术重点实验室(中国科学院),上海 201800
极紫外(EUV)光刻是7 nm及以下技术节点芯片大规模量产的关键技术。随着技术节点的减小、工艺复杂性的增加,芯片的良率面临着巨大挑战。边缘放置误差(EPE)是量化多重曝光技术过程中制造图案保真度的最重要指标。EPE控制已成为多重曝光和EUV融合光刻时代最大的挑战之一。EPE是关键尺寸(CD)误差和套刻误差的结合。在EUV光刻中,光学邻近效应和随机效应是引起光刻误差的重要因素。光学邻近效应校正(OPC)可以使EPE最小化。对于最先进的技术节点,EPE通常由随机效应主导,因此需要对EPE进行建模,尤其是需要对随机效应进行严格的建模,以分析影响EPE的关键参数。选择不同的测量手段对关键参数进行测量并优化EPE是提高芯片良率的重要途径。本文首先综述了EPE在EUV光刻中的重要作用,然后讨论了OPC和随机效应、EPE模型及涉及的关键参数,并介绍了关键参数的测量方法,最后总结和展望了与EPE相关的技术。
测量 极紫外光刻光源 套刻 光学邻近效应校正 对准 
中国激光
2024, 51(7): 0701005
作者单位
摘要
福州大学土木工程学院先进土木工程材料福建省高校研究中心, 福州 350108
超高延性水泥基复合材料(ECC)构建的面层相较于普通刚性混凝土路面面层, 具有更长的使用寿命。本研究对六种典型ECC材料制作而成的面层进行了生命周期评价和成本分析。结果表明, 虽然ECC面层短期内在环境影响和成本方面不占优势, 但是超长的使用寿命和较低的维护频率使其在整个生命周期内的环境影响和成本远低于普通刚性混凝土面层。与普通刚性混凝土面层相比, 含辅助胶凝材料(粉煤灰或矿渣)和环保纤维(聚丙烯纤维或玄武岩纤维)的ECC面层在生命周期内减少了63.2%~68.5%的增温潜势, 且成本只占普通刚性混凝土面层的9.6%~23.3%。
水泥基复合材料 辅助胶凝材料 路面面层 生命周期评价 增温潜势 成本分析 engineered cementitious composite supplementary cementitious material pavement overlay life cycle assessment global warming potential cost analysis 
硅酸盐通报
2023, 42(11): 3927
作者单位
摘要
1 中国科学院微电子研究所,北京 100029
2 中国科学院大学,北京 100049
随着半导体产业的高速发展,集成电路制造中光刻工艺特征尺寸极限化微缩,套刻精度的要求也愈来愈极端严苛。本文基于影响套刻精度的核心技术,即对准技术,对该技术中精密测量传感系统的设计和微纳测量对象对准标记的设计两个方面进行了归纳分析,就业内国际顶尖科技公司的技术发展进行了整理,并详细介绍了他们在对准测量技术路径演化进程中所起到的推动作用。同时,还对当前国内各相关技术团队在该方向的最新研究成果进行了总结。以此为基础,进一步讨论了面向更为先进的工艺节点,光刻对准技术的改进方向和优化思路,从而为获得更高精度的套刻性能提供重要的技术参考。
集成光学 对准 标记 套刻 光刻 集成电路 
光学学报
2023, 43(19): 1900001
Wenhe Yang 1,2Nan Lin 1,2,*Xin Wei 1,2Yunyi Chen 1,2[ ... ]Jianda Shao 2,**
Author Affiliations
Abstract
1 School of Microelectronics, Shanghai University, Shanghai 200072, China
2 Department of Precision Optics Engineering, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China
Overlay (OVL) for patterns placed at two different layers during microchip production is a key parameter that controls the manufacturing process. The tolerance of OVL metrology for the latest microchip needs to be at nanometer scale. This paper discusses the influence on the accuracy and sensitivity of diffraction-based overlay (DBO) after developing inspection and after etching inspection by the asymmetrical deformation of the OVL mark induced by chemical mechanical polishing or etching. We show that the accuracy and sensitivity of DBO metrology can be significantly improved by matching the measuring light wavelength to the thickness between layers and by collecting high-order diffraction signals, promising a solution for future OVL metrology equipment.
diffraction-based overlay overlay metrology accuracy lithography semiconductor microchip 
Chinese Optics Letters
2023, 21(7): 071204
黄凌锋 1,2,3董峰 1,2傅雨田 1,2,*
作者单位
摘要
1 中国科学院上海技术物理研究所,上海 200083
2 中国科学院红外探测与成像技术重点实验室,上海 200083
3 中国科学院大学,北京 100049
针对多帧短曝光图像叠加,提出一种融合成像系统自身的角度信息,通过光学系统与相机系统的坐标变换计算来获得图像偏移像素的方法。对于每一帧短曝光图像的角度,利用光学系统几何关系进行亚像素级偏移配准,再通过傅里叶变换的频移特性构建傅里叶频谱滤波器H(u,v),在频域对图像进行亚像素级别的修正,并使用刃边法对图像进行高频响应评估。对比未修复图像,经所提算法修正后图像在50%调制传递函数(MTF50)衰减处的分辨率从20 lp/mm提升到33 lp/mm,且其修复效果优于传统二次插值算法的修复效果;所提算法在40~80 lp/mm分辨率范围内具有较好的修复效果,MTF的峰值提升了4倍。
成像系统 遥感光学系统 短曝光图像叠加 数据融合 傅里叶频谱滤波器 
光学学报
2022, 42(24): 2411001
作者单位
摘要
1 中国科学院西安光学精密机械研究所,西安 710119
2 中国科学院大学,北京 100049
针对成像传感器自身设备动态范围限制的问题,改进了基于相机响应曲线的多曝光图像融合方法。改变曝光时间,获得一组不同曝光度的图像,对高亮图像和低亮图像进行图像融合。首先直接基于图像像素值求解转换因子,简化了高亮图像与低亮图像像素比率因子曲线的运算,避免了对相机响应曲线的求解,通过比率因子将低亮图像中的像素值映射至高亮图像像素值范围,然后对图像进行局域加窗处理,根据高亮图像窗口内的像素饱和情况,划分出像素值完全过曝、不完全过曝和良好过曝三种情况。针对不同的曝光情况,根据高亮图像窗口内的邻域像素饱和情况,确定不同的权重系数进行多曝光加权融合。实验结果表明,局域加权叠加方法很好地保留了两幅图像中的暗部细节信息和高亮场景信息,并通过对比其他算法,融合图像的峰值信噪比和结构相似性均有提高。
高动态范围成像 图像融合叠加 相机响应曲线 相机 局域加权叠加 High dynamic range imaging Image fusion overlay Camera Camera response curve Local weighted summation 
光子学报
2022, 51(11): 1110001
作者单位
摘要
上海大学 机电工程与自动化学院,上海 200444
为满足水下机器人水下目标识别、精细作业的需要,研制了一种融合3D点云和二维RGB图像为一体的RGB-D水下相机工程样机。针对水下环境的特殊性,考虑水下多层折射效应,建立水下相机成像及双目立体成像模型。将水下图像转换为空气中的图像来消除折射对重建精度的影响,进行对应点像素匹配,重建3D点云。采用基于颜色校正和暗原色先验的水下图像增强算法对左、右水下图像进行图像增强处理。最后,构建对准叠加模型将3D点云和二维彩色数据叠加融合,获得水下RGB-D图像数据。实验表明:研制的水下RGB-D工程样机具有较好的三维测量精度,3 m远处的系统重建误差为2.6 mm,颜色再现真实,3D点云数据与RGB二维图像对准精准。这对于水下目标识别和水下机器人精细作业具有重要意义。
双目立体视觉 水下相机成像模型 水下图像增强 水下三维重建 点云色彩对准叠加模型 水下RGB-D相机 Binocular stereo vision Imaging model of the underwater camera Underwater image enhancement Underwater 3D reconstruction Alignment overlay model of point clouds and colors Underwater RGB-D camera 
光子学报
2022, 51(4): 0404003
作者单位
摘要
华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室,湖北 武汉 430074

在线测量检测技术与装备是保证集成电路(IC)制造质量和良率的唯一有效技术手段,在IC制造过程中必须对IC纳米结构的关键尺寸、套刻误差,以及缺陷等进行快速、非破坏、精确测量与检测。本文首先从尺寸测量和缺陷检测两个方面介绍了IC制造在线光学测量检测技术的研究现状。在此基础上,进一步分析了先进技术节点中所面临的一些新的纳米测量挑战,如更小的特征尺寸、更复杂的三维结构。最后,展望了IC制造在线光学测量检测技术的未来发展趋势。

测量 集成电路制造 纳米测量 光学测量 光学检测 关键尺寸 套刻误差 缺陷 
激光与光电子学进展
2022, 59(9): 0922025
李一鸣 1,2杨霖 3王晓浩 1单硕楠 1[ ... ]李星辉 1,2,4,*
作者单位
摘要
1 清华大学深圳国际研究生院,广东 深圳 518055
2 鹏城实验室,广东 深圳 518055
3 工业和信息化部电子第五研究所,广东 广州 511370
4 清华-伯克利深圳学院,广东 深圳 518055

集成电路制造中光刻工艺特征尺寸不断减小,制造商对套刻误差指标的要求逐步提升,对具有亚纳米精度的套刻误差测量技术与系统有极为迫切的需求。针对该需求,对比介绍了基于衍射原理的套刻测量(DBO)和基于图像的套刻测量(IBO)技术原理与特点;在对比分析中,针对具有更高精度测量能力的DBO路线,梳理了其技术发展脉络,对DBO技术中存在的挑战和未来的发展方向进行了论述。所述内容有望为我国先进节点光刻机的独立自主开发提供技术参考。

光刻工艺 集成电路 基于衍射的套刻误差测量 基于图像的套刻误差测量 
激光与光电子学进展
2022, 59(9): 0922023
作者单位
摘要
1 浙江众凌科技有限公司, 浙江 海宁 314400
2 重庆京东方光电科技有限公司, 重庆 400715
薄膜晶体管-液晶显示行业(TFT-LCD)高精细产品需求越来越多, 尤其当8.5代及以上大世代线生产手机等小尺寸产品时, 彩膜曝光机的曝光均一性及叠层(Overlay)精度难以保证的问题突出, 影响大世代线高精细产品的开发及生产。通过对彩膜曝光机自动补偿功能的研究, 发现使用曝光机的间距(Gap)自动补偿, 将差值自动补正到每个区域(Shot)中, 使每个区域曝光间距更接近实际间距, 使区域间间距差异变小, 可以保证曝光均一性; 另外, 通过使用曝光机的新型光路自动补偿系统, 根据每枚基板整体形变和黑矩阵(BM)工艺的区域形变的实际形变量进行更有效的补偿, 得到更匹配BM的区域形状, 可以提高叠层精度。当彩膜曝光机可以保证曝光均一性和叠层精度, 则可为大世代线开发和生产更多小尺寸高精细产品提供支持。
高精细 彩膜曝光机 曝光均一性 叠层精度 自动补偿 high precision CF EXPO exposure uniformity overlay accuracy automatic compensation 
光学与光电技术
2021, 19(5): 95

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