为了实现移相式菲索干涉仪对光学元件面形的高精度测量，建立了干涉仪同步采集移相系统，并对精确移相方法进行了研究。介绍了移相系统的构成和工作原理，计算了测量过程中移相器的速度。针对PZT移相器在移相过程中会引入离焦误差，并存在加速段和减速段的问题，详细设计了移相器的行进过程。最后，对移相器的性能进行了标定。在改造后的干涉仪上开展了重复性验证实验，结果表明：干涉仪可以获得λ/11 340的RMS测量重复性。对改造后干涉仪与Zygo公司生产的Verifire XP/D干涉仪的测量精度做了比对实验，结果显示：相同元件下两者测量结果的面形RMS之差约为09 nm，表明提出的移相系统及移相方法在重复性和准确度方面都能满足纳米级面形测量的要求，为研制高精度移相干涉仪奠定了基础。