薄膜表面粗糙度是表征薄膜质量的重要指标,为了探求环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响,采用XeCl脉冲准分子激光器,分别在惰性气体氦气和氩气的不同气压环境下烧蚀沉积了纳米Si薄膜,用Tencor Instruments Alpha-Step 200台阶仪对相应薄膜的表面粗糙度进行了测量。结果表明,薄膜表面粗糙度开始随着气压的增大而逐渐增加,在达到一最大值后便随着气压的增大而减小。由不同气体环境下的结果比较可以看出,充氩气所得Si薄膜表面粗糙度比充氦气的小,最大粗糙度强烈地依赖于气体种类。对于原子质量较大的氩气而言,其最大粗糙度仅比低气压时高出11%,而对于原子质量较小的氦气来说,其最大粗糙度比低气压时高出314%。

用热分解法制备的Bi,Al替DyIG磁光薄膜虽然是纳米晶,但由于其晶界分布不均匀、晶粒较大且均匀性差,当用于磁光记录时,晶界将产生较大的噪音.而掺Rb的Bi,Al替DyIG磁光薄膜不仅可以降低晶化温度,而且晶粒明显细化,最大晶粒尺寸从100 nm下降到50 nm左右,平均晶粒尺寸下降为30 nm左右.并且晶粒的均匀性明显改善,掺入的Rb以Rb2O固溶体的形式存在于磁光薄膜表面,填补了薄膜表面的凹凸不平,使薄膜表面反射率增加,信噪比增大.因此掺Rb可使纳米晶Bi,Al替DyIG磁光薄膜的性能大大提高.