为消除溅射沉积多层膜过程中产生的膜厚随机误差，实现多层膜膜厚的精确控制，提出了一种精确标定薄膜沉积速率的方法。该方法通过对多次实验结果进行最小二乘拟合得到薄膜沉积速率。对随机误差基本特性的分析表明，随着实验次数的增加，沉积速率将逐渐逼近真值。基于这一原理，可以对薄膜的沉积速率进行精确标定，同时提取出膜厚随机误差，进而确定镀膜机的膜厚控制精度，获得精确控制多层膜膜厚所需要的完整信息。选用两种精度不同的沉积设备，采用提出的方法对所制备的多层膜进行了测试。结果表明，多层膜的膜厚控制精度随沉积设备而异：其中低成本的普通镀膜机只能实现0.1 nm的膜厚控制精度; 而另一台性能较高的镀膜机的膜厚控制精度优于0.01 nm。