作者单位
摘要
国防科学技术大学 光电科学与工程学院, 湖南 长沙 410073
实际应用中的薄膜或多或少存在体折射率不均匀缺陷, 其准确表征对于镀膜工艺参数调校、低损耗薄膜设计与制备分析等具有影响。从Schrder近似出发, 推导了体折射率弱不均匀薄膜的膜系特征矩阵, 通过特征矩阵法推广, 建立了体折射率弱不均匀多层膜光谱特性计算的近似模型。利用基于有效介质理论的多层均匀膜近似方法, 讨论了上述近似模型的有效性、计算精度和时间消耗特性。结果表明, 上述模型矩阵计算中引入体折射不均匀度这一参数, 为多层膜体折射率不均匀缺陷反演提供了一种有效的手段, 为基于宽带光谱测量数据拟合的膜层缺陷数值反演应用奠定了基础。
薄膜光学 缺陷反演模型 Schrder近似 不均匀薄膜 thin film optics reverse determination model for multilayer defects Schrder approximation inhomogeneous film 
应用光学
2016, 37(1): 124
作者单位
摘要
国防科学技术大学光电科学与工程学院,湖南 长沙 410073
体折射率不均匀是一种常见的薄膜缺陷,其反演计算对于膜系的设计和制备都有重要影响。推导出体折射率不均匀薄膜的膜系特征矩阵,建立斜入射条件下的不均匀膜光谱特性计算的近似模型,探讨模型的计算精度和计算时间,并利用模型计算椭偏角验证模型的可行性。结果表明,斜入射条件下的不均匀薄膜模型为基于宽带光谱测量数据拟合的膜层缺陷数值反演应用提供了快速有效的方法。
薄膜 缺陷反演模型 Schr?der近似 斜入射 不均匀薄膜 
光学学报
2016, 36(1): 0131001

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!