设计、制作了一款980 nm高稳定度激光泵浦源控制系统,以满足掺铒光纤放大器(EDFA)稳定工作的需要。首先，以恒流激励原理设计了控制系统的驱动单元。接着，使用半导体制冷器(TEC)作为泵浦源的温度控制手段，设计了控制系统的温度控制单元。为了验证控制系统的有效性，选用一款激光泵浦模块组成了完整的激光泵浦源系统。最后，对激光泵浦源的激光输出进行了实验，研究了光功率与驱动电流的关系，以及系统的光功率稳定度与光谱稳定性等。对系统进行了相关测试实验， 结果显示: 应用了本控制系统的激光泵浦源的激光输出中心波长为975.2 nm，光功率可达600 mW，短期光功率稳定度为±0.008 dB，长期光功率稳定度为±0.05 dB，比同类激光泵浦源具有更高的稳定度。得到的结果表明: 所设计的激光泵浦源控制系统满足设计要求，具有一定的实用价值。