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光谱学
新型可溶性亚酞菁旋涂薄膜的光学常数
王阳 *干福熹 
作者单位
摘要
中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800
通过旋涂法在单晶硅片上制备了一种新型可溶性亚酞菁(三新戊氧基溴硼亚酞菁)薄膜.利用全自动椭圆偏振光谱仪研究了该薄膜的椭偏光谱,测量了其复折射率、复介电函数和吸收系数,并对其吸收谱的成因作了分析.
可溶性亚酞菁染料 旋涂薄膜 椭圆偏振光谱 复折射率 复介电函数 吸收系数 
PDF全文 Full Text
中国激光
2002, 29(3): 239
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