作者单位
摘要
1 中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥,230031
2 中国科学院化工冶金研究所,北京,100080
3 中国科学院北京高能物理研究所,北京,100039
4 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,210080
本文报道了应用环境扫描电镜(ESEM)和同步辐射X射线白光形貌术对采用提拉法生长出的Nd:YVO4晶体进行的形貌及生长缺陷的分析,获得了该晶体的开裂表面的ESEM形貌像以及取自晶体肩部和中间部位的(001)面的同步辐射白光形貌像,观察到了位错、包裹物等缺陷,可为生长高质量的Nd:YVO4晶体提供重要的启示.
Nd:YVO4晶体 环境扫描电镜 同步辐射白光形貌术 晶体开裂 晶体缺陷 Nd:YVO4 crystal environmental scanning electron microscopy (ESEM synchrotron radiation white beam X-ray topography crystal crack crystal defects 
量子电子学报
2002, 19(6): 496

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!