为了提高设备智能化作业, 节省人力, 对彩色滤光膜微观缺陷自动化修补进行了研究。通过最小循环比对法, 修补设备能实现自动查找缺陷、确认缺陷精确位置并自行选择研磨、激光或填色等修补作业方式的功能, 替代人工角色。经统计, 自动修补成功率为99.8%, 与人工修补成功率99.9%接近, 满足生产需求。8.5代线CF工厂自动化修补导入后, 该岗位人员配置由20人降低为7人。进一步地, 通过赋予检测设备给基板判级功能, 使不需要修补的基板不进入修补设备, 优化了基板流向和设备负荷。优化后, BM、RGB和PS修补工序平均修补一个卡夹的时间分别减少了24%、12%和6%, 提升了修补效率。
彩色滤光膜 微观缺陷 修补 自动化 color filter microscopic defect repair automatic
1 天津科技大学电子信息与自动化学院 ,天津 300222
2 香港科技大学先进显示与光电子技术国家重点实验室, 香港 999077
研究了垂直向列型彩色滤光膜硅覆液晶(VA CF-LCoS) 微显示器件,并利用其三维光学模型,改变液晶器件的预倾角、像素尺寸等参数,优化了微小像素中的边缘电场效应。为进一步优化器件的性能,建立了以圆偏振光作为入射光源的微显示器件的三维光学模型。研究结果表明:当以圆偏振光作为照明光源时,VA CF-LCoS微显示器件的光学反射效率可得到大幅提升。由于采用了三维光学模型的分析方法,得到了与利用二维光学模型进行分析时完全不同的结论:优化只能使得边缘场效应导致的亮态子像素内部黑线减小,而不能彻底消除它。
光学器件 彩色滤光膜 硅覆液晶 垂直向列型 光学建模 圆偏振光
1 天津科技大学 电子信息与自动化学院，天津 300222
2 香港科技大学 显示技术研究中心，香港 九龙
应用彩色滤光膜硅覆液晶(Color Filter Liquid Crystal on Silicon，CF-LCoS)微显示器件的三维光学模型; 研究了像素尺寸和彩色滤光膜厚度对彩色侧向场的影响。这两个参数可以影响微显示器件的色纯度、光反射率以及对比度等性能参数。对于特定的应用，需要考虑器件所有的性能参数要求，才能对像素尺寸和彩色滤光膜厚度进行优化。
彩色滤光膜 硅覆液晶 微显示 三维 光学建模 优化 color filter LCoS microdisplay three-dimensional optical modeling optimization
1 天津科技大学电子信息与自动化学院, 天津 300222
2 香港科技大学显示技术研究中心, 香港 九龙
应用彩色滤光膜硅覆液晶（CF-LCoS）微显示器件的三维光学模型对CF-LCoS的性能进行优化。通过改变像素排列结构、液晶取向层的摩擦结构以及液晶器件模式等条件优化侧向电场效应，抑制彩色漏光现象。通过优化，像素尺寸为15 μm的CF-LCoS微显示器件，其色纯度可以达到美国国家电舰系统委员会(NTSC)色域范围的63%。结果表明，基于三维光学模型的CF-LCoS微显示器件的性能优化可以有效抑制侧向电场效应诱导产生的彩色漏光现象，大幅提升器件的色纯度参数。
视觉光学 彩色滤光膜 硅覆液晶 微显示 三维 光学建模 优化 光学学报
2011, 31(12): 1226001
