为了研究离子束刻蚀抛光过程中离子源工艺参数对刻蚀速率及表面粗糙度的影响, 采用微波离子源为刻蚀离子源, 以BCB胶为主要研究对象, 研究了离子束能量、离子束电流、氩气流量、氧气流量对BCB胶刻蚀速率及表面粗糙度的影响, 获得了离子源工艺参数与刻蚀速率及表面粗糙度演变的关系。研究结果表明, 离子束能量在从400 eV增大到800 eV的过程中, 刻蚀速率不断增大, 从3.2 nm/min增大到16.6 nm/min; 离子束流密度在从15 mA增大到35 mA的过程中, 刻蚀速率不断增大, 从1.1 nm/min增大到2.2 nm/min; 工作气体中氧气流量从2 mL/min增大到10 mL/min的过程中, 刻蚀速率会整体增大, 在8 mL/min处略有下降。表面粗糙度变化不大, 可以控制在1.8 nm以下。

电子束束参数是衡量各种加速器产生的电子束品质的重要参数,其测量技术的研究及测量工作是极其重要的一个方面。由于加速器研制水平的提高,尤其在调试阶段对束参数的测量要求也变得更高,体现在高的时间分辨能力和更好的空间分辨率、数据更高的动态范围及更加直观的可视性。针对束参数中最基本的参数如束斑测量、发射度测量、能量测量等技术,利用已研制的高性能设备,针对强流脉冲电子束的特点,基于多种主要原理研制了比较完整的、时间分辨能力高达2 ns、高灵敏度、高动态数据范围的电子束束参数光学测量及诊断系统,并编制了一套处理程序,达到了现场实时的数据处理水平,具有直观诊断的特点,为解决调试工作中诸多的问题提供翔实而准确的数据,成功地应用于多个加速器的调试。

在直线感应加速器束参数测量系统实验的基础上，给出了束参数测量系统的实验布局和特点，分析高能电子辐照对直线感应加速器中测量系统电子器件介电性能的影响和变化规律；进一步探讨电子器件介电性能受高能电子辐照后的抑制措施。针对电磁空间干扰情况，主要通过采用光纤传输控制信号的措施，能很好地传输窄脉冲，信号延时抖动小，达到了高速信号的可靠传输要求，利用紧凑嵌入式方法，提高了抗电磁干扰的能力，这样可以更好保护束参数测量电子器件。