作者单位
摘要
1 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 发光学及应用国家重点实验室, 吉林 长春 130033
2 中国科学院大学, 北京 100049
3 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所, 江苏 苏州 215163
为了获得高稳定性的偏振光,研制了氧化孔区域为70 μm×10 μm 的非对称电流注入的矩形台面垂直腔面发射激光器(ACIR-VCSEL)。在室温下,注入连续直流电流,实验测试得到ACIR-VCSEL 的斜率效率为0.483 W/A,微分串联电阻为23.5 W。在电流注入过程中,ACIR-VCSEL 以稳定的平行于长边的偏振光输出,功率偏振比始终大于5。当电流为15 mA 时,功率偏振比的最大值为14。在相同的测试条件下,氧化孔径大小同为70 μm×10 μm 的环形电流注入矩形台面VCSEL (RCIR-VCSEL)的斜率效率为0.568 W/A,微分串联电阻为18.1 W,偏振功率比值最大值为9,最小值为2.6。RCIR-VCSEL 与ACIR-VCSEL 的输出特性相比,虽然RCIR-VCSEL 比ACIR-VCSEL 的斜率效率高,串联微分电阻小,但是ACIR-VCSEL 的偏振稳定性和最大偏振比值比RCIR-VCSEL 增强。
激光器 垂直腔面发射激光器 非对称电流注入 偏振 矩形台面 
激光与光电子学进展
2015, 52(7): 071402
李秀山 1,2,*宁永强 1贾鹏 1,2陈泳屹 1[ ... ]王立军 1
作者单位
摘要
1 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所发光学及应用国家重点实验室, 吉林 长春 130033
2 中国科学院大学, 北京 100039
为实现垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)大功率窄线宽输出,设计了浅面浮雕矩形台面结构的垂直腔面发射激光器(SR VCSEL)。电流密度分布会影响模式的分布,模拟结果表明,矩形台面VCSEL相比于圆形台面VCSEL,在有源区面积增大的情况下,电流密度分布不变。在矩形台面VCSEL出光孔表面刻蚀浅面浮雕后,高阶模式比基模的阈值增益的变化大,基模对高阶模式的抑制增强。理论结果表明,矩形浅面浮雕结构的VCSEL能够实现对高阶模式的抑制,测试结果得到连续输出为5.87 mW,光谱宽度为0.1 nm,功率偏振度为10,横向模式抑制比超过30 dB的窄线宽输出。
激光器 半导体激光器 矩形台面 浅面浮雕 
中国激光
2014, 41(12): 1202005

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