为了确定光纤连接器陶瓷插芯端面“环状脏污”的成分、形成原因和特点，通过查阅相关文献并进行试验验证，最终说明了“环状脏污”形成的原因，确定了其成分为环状水珠，并给出了环状水珠的最大尺寸范围。该研究有助于消除应用领域对光纤连接器陶瓷插芯端面“环状脏污”的担忧和误解。
环状脏污 毛细现象 环状水珠 接触角 等离子清洗 round stains capillarity round droplets contact angle plasma cleaning
长春理工大学 高功率半导体激光国家重点实验室, 吉林 长春130022
介绍了一种氩、氢混合等离子体清洗GaAs基片的实验工艺, 深入研究了氩、氢等离子体清洗GaAs表面污染物和氧化层, 并活化表面性能的基本原理, 同时讨论了气体流量、溅射功率和清洗时间等不同溅射参数对等离子体清洗效果的影响。结果表明, 在氩气和氢气流量分别为10 cm3/min和30 cm3/min, 溅射功率为20 W, 清洗时间为15 min的条件下, GaAs样品的光致发光强度提高达139.12%, 样品表面的As—O键和Ga—O键基本消失。
等离子清洗 GaAs基片 发光强度 plasma cleaning GaAs substrates photoluminescence intensity
