1 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光电技术研发中心, 吉林 长春 130033
2 中国科学院大学, 北京 100049
为实现曝光系统均匀照明的目标，基于非成像光学，提出了一种阵列型模组的匀光照明系统优化设计方法。该方法首先通过对单模组的光学设计，实现半发散角度和阵列间距的初步计算，然后通过TracePro软件的Scheme宏语言和优化引擎相结合，实现对模组阵列间距的进一步优化，从而实现对整个光学系统的均匀照明设计。光源采用日亚紫外LEDSTS-DA1-2394E，阵列模组个数为5，阵列纵向间距为28 mm，横向间距为24 mm。该光学系统通过TracePro软件模拟仿真和实验结果表明：在距光源300 mm的距离处，可实现目标面积上的均匀照明，其非均匀性均小于5%，准直角度约为4°。
光学设计 紫外曝光 匀光照明 阵列 光学学报
2015, 35(10): 1022003
上海理工大学 光电信息与计算机工程学院,上海 200093
紫外曝光机是印刷线路板(PCB)制作工艺中的重要设备,PCB高密度、微细化的发展趋势,对曝光机光照均匀性,平行性的要求越来越高。为了找出可以更好满足市场需求的曝光机光学系统,运用非成像光学方法,对两种不同光学结构曝光机的光斑均匀性进行了对比分析。通过实验可以看出,在通光孔径较大的光学系统中,复眼透镜阵列和方棒对改善系统光照均匀性以及能量利用率的作用,在实验基础上对如何选择光学系统的匀光器件做了对比性阐述。
印刷线路板(PCB) 紫外曝光机 复眼 方棒 printed circuit board(PCB) UV exposure machine fly eye lens light pipe
1 北京交通大学全光网络与现代通信网教育部重点实验室, 北京 100044
2 北京交通大学光波技术研究所, 北京 100044
理论上分析并从实验上验证了一种利用均匀相位掩模板写入啁啾光纤光栅的方法:将光纤弯曲,由于光纤离掩模板的距离不同从而使光纤光栅的周期轴向渐变,由此产生啁啾。分析了这种啁啾光纤光栅的谱特性和时延特性,同时也分析了由于光纤离掩模板的距离不同而引起的折射率调制变化给光纤光栅特性带来的影响。设计了一种石英曲面,利用其使光纤按照弯曲函数进行弯曲,然后进行紫外曝光制成了线性的啁啾光纤光栅。实验中制作的啁啾光纤光栅色散值为-1102 ps/nm,纹波为17ps。通过改变弯曲函数就可以实现利用一块均匀相位掩模板制作不同啁啾量的啁啾光纤光栅的目的,降低了啁啾光纤光栅的制作成本。
光纤光学 啁啾光纤光栅 线性啁啾 色散 均匀相位掩模板 紫外曝光
以钛酸丁酯和苯甲酰丙酮为原料,经sol-gel工艺,获得具有负性光刻胶性质的TiO2光敏凝胶薄膜.它的敏感波长在360nm附近,与反应生成的螯合环有关.结合掩模曝光和显影工艺,将条状或网格状的光栅图形引入光敏凝胶表面,获得光敏凝胶光栅.
光敏凝胶 紫外曝光 掩模 溶胶-凝胶工艺 Photosensitive gel UV Irradiation Phase mask Sol-gel technology
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室,上海,201800
在载氢光纤上利用振幅掩模板来制作长周期光纤光栅,由于氢气的引入导致光纤光栅的热稳定性变差,这给制作符合要求的光纤光栅造成很大的困难.从理论和实验两个方面指出了在长周期光纤光栅的制作过程中若适当地降低长周期光纤光栅的含氢量,并灵活地运用均匀紫外曝光技术,能够明显地提高长周期光纤光栅的热稳定性.
长周期光纤光栅 热稳定性 均匀紫外曝光
