为了考察基底温度对氧化铝薄膜折射率以及沉积厚度的影响情况, 在不同基底温度环境下, 通过离子辅助电子束蒸发方式, 在玻璃基底上制备了同一Tooling因子条件下所监测到相同厚度的Al2O3薄膜, 利用分光光度计测量光谱透过率, 依据光学薄膜相关理论, 计算了基底温度在25℃～300℃范围内获得的膜层实际物理厚度为275.611 nm～348.447 nm, 以及膜层折射率的变化。通过对实验结果的数值计算和曲线模拟, 给出了基底温度对于薄膜的折射率和实际厚度的影响情况。
离子辅助电子束蒸发 薄膜光学常数 基底温度 氧化铝薄膜 ion-assisted electron beam evaporation optical constants of thin films substrate temperature alumina thin films
1 武汉化工学院 材料科学与工程学院，武汉 430073
2 武汉理工大学 材料科学与工程学院，武汉 430070
薄膜光学常数决定薄膜的光学性能。通过对椭圆偏振仪测试原理的分析，得到求解薄膜光学常数超越方程的数值算法简化公式，并利用MathCAD的“Solve Block”模块开发了基于Windows系统的椭圆偏振测量薄膜光学常数的计算程序，该程序可用于单层有吸收薄膜或无吸收薄膜折射率和厚度的计算。实际应用结果表明，该计算具有数值准确、精度高、运算速度快、适应性好，对系统无特殊要求等优点，可用于薄膜制备过程的在线检测。
椭圆偏振仪 薄膜光学常数 薄膜折射率 薄膜厚度 ellipsometer test thin-film optical constant thin-film refractive index thin-film thickness MathCAD MathCAD
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
偶氮金属镍(Ni(azo)2)是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质。为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数,用旋涂法(Spin-coating)在单晶硅片上制备了Ni(azo)2薄膜。在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了Ni(azo)2薄膜的椭偏光谱。采用逼近算法获得了Ni(azo)2薄膜在可见光范围内的复折射率、复介电函数、吸收系数和薄膜厚度。分析了Ni(azo)2薄膜可见吸收光谱的形成机理。结果表明在波长650 nm处薄膜的折射率为2.19,吸收常数为0.023,具有良好的吸收和反射特性,显示出作为高密度数字多用光盘(DVD-R)记录介质的良好应用前景。
薄膜物理学 薄膜光学常数 椭偏光谱 偶氮金属镍螯合物
