1 深圳大学,理学院,应用物理系,广东,深圳,518060
2 中国科学院上海光学精密机械研究所,光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800
3 中国科学院上海光学精密机械研究所,光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800??br>
在不同的氧分压下用电子束热蒸发的方法制备了氧化锆薄膜.用扫描探针显微镜、X射线衍射仪和分光光度计分别对薄膜的表面粗糙度、微结构和透射谱等特性进行了表征.实验发现,薄膜沉积中氧分压与薄膜性质及微结构有密切的关系.当氧分压由3.0×10-3Pa升高到11×10-3Pa,薄膜的表面粗糙度由3.012nm降低到1.562nm,而薄膜的折射率由2.06降低到2.01.此外,X射线的衍射还发现,薄膜是以四方相为主多相共存的,随着氧分压的增加,特征衍射峰强度逐渐减弱,最后完全变成非晶.
氧化锆薄膜 氧分压 表面迁移率 薄膜特性