研究了一种带辅助气体的新型纳米颗粒多射流高效雾化喷射技术。开发了带有辅助气流的多喷嘴静电雾化喷头，引导辅助气体均匀分布于各喷嘴四周形成稳定鞘层气流，从而对带电雾化射流产生拉伸与约束作用，而形成的鞘层气流降低了表面电荷密度，克服了带电喷嘴间的电场干扰，实现了多雾化射流的稳定、持续喷射。研究了静电雾化多射流的喷射、沉积行为，分析了辅助气体供气压强对射流喷射临界启动电压和纳米颗粒均匀性的影响规律。实验结果显示: 辅助鞘层气流降低了射流喷射临界启动电压和雾化颗粒直径，提升了雾化纳米颗粒的均匀性。辅助气体供气压强从0 kPa增加到50 kPa时，雾化多射流喷射临界启动电压从4.9 kV降低至2.8 kV，纳米颗粒平均直径从845.267 nm下降至528.06 nm。结果表明: 鞘层气流的引入为纳米颗粒的多射流、快速喷射提供了一种有效的技术手段，有助于推动静电雾化技术的应用发展。

为了获取静电雾化场中雾滴的空间位置、尺寸和速度信息, 利用同轴数字显微全息方法, 设计并搭建了雾化场测量装置,横向测量范围12.5mm, 空间极限分辨率90.5LP/mm, 能够实现直径8μm雾滴的测量。在该装置上, 进行了单毛细管和多毛细管在稳定锥-射流模式下雾化场的测量, 取得了不同流量下雾滴平均直径和平均速度随流量的变化关系。结果表明, 该装置能够在单次测量中同时给出雾滴空间位置、尺寸和速度信息。该研究对于雾化参量的测量以及静电雾化研究有重要意义。