“激光光刻技术”专题征稿启事
激光光刻技术通过对光场以及多物理场的调控，精确操控微观尺度原子分子的变化，满足多样化精细结构的制备需求，在当前复杂多变的信息技术应用场景中发挥着不可替代的作用。光刻技术按照光场实现图案化的方式，主要分为掩模光刻与直写光刻两种：前者主要基于投影曝光方式，技术成熟度高，是当前光刻工艺的主要技术，在泛半导体领域中得到广泛应用；后者技术手段丰富，包括近场表面等离子体光刻、全息光刻、干涉光刻、双光子光刻等，具有工艺简单、加工周期短、灵活性强、费用低等优势，是当前研究的热点之一，正逐步走向产业应用。
但现阶段激光光刻技术仍面临诸多挑战：发展光刻分辨力的新原理和新技术，探索纳米尺度复杂结构和图案的加工途径；发展快速光刻新方法，研究跨尺度微纳结构的高效制造手段；发展针对不同材料类型的微纳加工方法，探索包含金属材料、硬脆材料、生物医学材料、二维材料在内的多种材料的微纳构型的加工方法；开发新型光刻装置，实现其在半导体器件、超构表面、微机电系统等领域中的应用。
随着光电子技术、纳米光子技术和材料技术等的快速发展，众多新技术成果极大地丰富了突破现有光刻技术瓶颈的手段。近期，多种技术的交叉应用，使得在提升刻写精度与速度、拓展加工材料范围以及探索新结构新器件应用等方向实现了重大突破。因此《中国激光》计划于2024年第12期（6月）推出“激光光刻技术”专题，希望通过本专题的出版，进一步推动激光光刻关键技术与装置的发展。
现特向广大专家学者征集符合该专题方向的原创性研究论文及综述。欢迎各位踊跃投稿！
征稿范围：（包括但不仅限于）
特邀组稿专家：
截稿日期：
2024年2月10日
投稿方式及格式：
通过《中国激光》官网进入“作者中心”，按系统要求填写信息，上传稿件投稿（主题标明“激光光刻技术”专题）。投稿模板及要求请参见“作者中心”首页或《中国激光》官网。
联系人：沈灵灵电 话：021-69917051
邮 箱：shenlingling@siom.ac.cn
特邀组稿专家个人简介：
陈岐岱，吉林大学唐敖庆特聘教授，博士生导师，集成光电子学国家重点实验室吉林大学实验区主任，《中国激光》副主编。获国家自然科学基金杰出青年基金，教育部新世纪优秀人才。主要工作从事光电子技术研究，聚焦激光精密加工和纳米制造关键技术，为超快激光加工器件功能化、效率和精度提升做出了创新贡献，形成了具有自主知识产权的超快激光微纳加工技术和装备体系，满足了基础研究和国防高技术领域若干紧迫需求。围绕上述工作，在Nature Photonics、Nature Physics、Nature Communications及Light: Science & Application等领域一流杂志发表论文230余篇，论文被SCI论文他引11000余次，H-index 59; 获国家自然科学二等奖、吉林省和教育部自然科学一等奖各一次。主持完成国家重点研发项目和国家自然科学基金重点项目。
匡翠方，浙江大学教授，博士生导师，之江实验室外部专家，浙江省“万人计划”科技创新领军人才。主要从事超分辨直写光刻与超分辨显微成像相关研究，主持或参与基金委重大仪器专项基金、国家杰出青年基金、科技部973项目、科技部重大仪器研发等项目20余项。以第一/通讯作者在Nature Communications、Physical Review Letters、Optica等杂志发表论文 150余篇，授权发明专利90余项，获美国PCT专利1项，其中7项专利获得转化或转让。成果获得2019年国家科学技术发明二等奖（2/6），2019年度王大珩光学奖-中青年科技人员光学奖，2016、2019年度两次中国光学十大进展，2020年浙江省科学技术进步奖三等奖。
陈世祈，香港中文大学机械与自动化工程学系教授、博士生导师。现为美国光学学会（OSA）会士、美国机械工程师学会（ASME）、美国精密工程学会（ASPE）、国际光学工程学会（SPIE）会员，担任IEEE，ASME 等杂志编辑。主持或参与美国劳伦斯国家实验室项目、国家自然科学基金面上项目、香港科技创新项目等大陆外研究项目40 多项（主持项目或负责子项目累计经费超过1 亿港币）。在超快激光应用、生物光子学、精密机械、纳米制造和MEMS 等研究领域，先后以第一/通讯作者发表 Science, Nature communications, Advanced Materials, Advanced Functional Materials, Optica, Optics Letters, Optics Express 等SCI 论文100 多篇，包括发表在顶级科学期刊Science 杂志上的论文两篇，获得 OSA、SPIE 等国际/大陆会议邀请报告 80 多次，以第一发明人申请美国发明专利 32 项。于2003 及2018 年两度获得《R&D》杂志评选的全球百大发明奖 （R&D 100 Award）。
曹耀宇暨南大学教授，博士生导师。主要从事微纳结构激光加工技术与仪器研制、以及光电功能材料和微纳光电子器件研究。主持、参与了包括国家科技部重点研发计划重点专项项目、国家自然科学基金重点/面上项目、广东省创新团队项目在内的项目10余项。代表性成果包括发展了双光束引发-抑制激光加工方法，在世界上首次验证了非光学衍射极限限制的超快激光微纳结构加工技术，突破光学中的基本物理限制光学衍射理论极限，实现激光三维纳米加工技术上的飞跃，创造了激光加工最细线宽世界记录9 nm。同时，通过将新颖的双光束激光加工技术和光存储技术结合，验证了可将蓝光技术的存储密度提高10000倍以上的超高密度光存储技术。2015年荣获澳大利亚KCA科技创新及商业化价值奖。目前在该领域相关研究成果发表在多个国际权威期刊包括Nature Photonic, Nature communications, Light: Science & Application, Optica，Material Horizons, Small上，共发表收录SCI论文70余篇。目前担任中国感光学会光学精密成型专委会、中国感光学会辐射固化专委会委员。
