掩模偏转方向对硅尖形状的影响

崔岩; 石二磊; 夏劲松; 王立鼎

光学精密工程, 2009, 17 (8): 1865, 网络出版: 2009-10-28

掩模偏转方向对硅尖形状的影响

Effect of changing mask direction on tip shape

崔岩 ^1,2,*石二磊 ¹夏劲松 ¹王立鼎 ¹

作者单位

¹ 大连理工大学微纳米技术及系统辽宁省重点实验室,辽宁大连 116023

² 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,辽宁大连 116023

引用该论文

崔岩, 石二磊, 夏劲松, 王立鼎. 掩模偏转方向对硅尖形状的影响[J]. 光学精密工程, 2009, 17(8): 1865.

CUI Yan, SHI Er-lei, XIA Jin-song, WANG Li-ding. Effect of changing mask direction on tip shape[J]. Optics and Precision Engineering, 2009, 17(8): 1865.

引用列表

1、模板微电铸工艺制备金字塔形镍纳米尖光学精密工程, 2020, 28 (7): 1500

2、阵列微沟槽的场域离散脉冲电解加工技术光学精密工程, 2018, 26 (5): 1098

3、复合湿法腐蚀工艺制备硅基三维曲面光学精密工程, 2013, 21 (6): 1531

崔岩, 石二磊, 夏劲松, 王立鼎. 掩模偏转方向对硅尖形状的影响[J]. 光学精密工程, 2009, 17(8): 1865. CUI Yan, SHI Er-lei, XIA Jin-song, WANG Li-ding. Effect of changing mask direction on tip shape[J]. Optics and Precision Engineering, 2009, 17(8): 1865.

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