干法刻蚀工艺对TFT-LCD Flicker改善的研究

李鑫; 卞丽丽; 陈曦; 吴成龙; 贠向南

doi:doi:10.3788/yjyxs20153006.0904

液晶与显示, 2015, 30 (6): 904, 网络出版: 2016-01-19

干法刻蚀工艺对TFT-LCD Flicker改善的研究

Improvement of flicker TFT-LCD by dry etching process

李鑫卞丽丽陈曦吴成龙贠向南

作者单位

福州京东方光电科技有限公司，福建福州 350330

图 & 表

李鑫, 卞丽丽, 陈曦, 吴成龙, 贠向南. 干法刻蚀工艺对TFT-LCD Flicker改善的研究[J]. 液晶与显示, 2015, 30(6): 904. LI Xin, BIAN Li-li, CHEN Xi, WU Cheng-long, YUN Xiang-nan. Improvement of flicker TFT-LCD by dry etching process[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2015, 30(6): 904.