半导体光电, 2012, 33 (2): 204, 网络出版: 2012-05-22
In2Ge2O7薄膜制备及其紫外光敏特性研究
Preparation and Ultraviolet Photoresponse of In2Ge2O7 Thin Films
基本信息
DOI: | -- |
中图分类号: | O484.41 |
栏目: | 材料、结构及工艺 |
项目基金: | -- |
收稿日期: | 2011-08-11 |
修改稿日期: | -- |
网络出版日期: | 2012-05-22 |
通讯作者: | 冯琳 (fenglinmix@163.com) |
备注: | -- |
冯琳, 褚夫同, 唐永旭, 李瑶, 刘兴钊. In2Ge2O7薄膜制备及其紫外光敏特性研究[J]. 半导体光电, 2012, 33(2): 204. FENG Lin, CHU Futong, TANG Yongxu, LI Yao, LIU Xinzhao. Preparation and Ultraviolet Photoresponse of In2Ge2O7 Thin Films[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2012, 33(2): 204.