光电工程, 2019, 46 (4): 18022010, 网络出版: 2019-05-04  

SiO2光学薄膜的吸收边特性

Characterictics of absorption edge of SiO2 films
作者单位
1 中国科学院光电技术研究所, 四川成都 610209
2 中国科学院大学, 北京 100049
3 电子科技大学光电科学与工程学院, 四川成都 610054
基本信息
DOI: 10.12086/oee.2019.18022010
中图分类号: TB383;O484
栏目: 科研论文
项目基金: 中国科学院西部之光基金、 国家自然科学基金资助项目 (61805247)
收稿日期: 2018-04-05
修改稿日期: 2018-11-06
网络出版日期: 2019-05-04
通讯作者: 孔明东 (kongmd@ioe.ac.cn)
备注: --

孔明东, 李斌成, 郭春, 柳存定, 何文彦. SiO2光学薄膜的吸收边特性[J]. 光电工程, 2019, 46(4): 18022010. Kong Mingdong, Li Bincheng, Guo Chun, Liu Chunding, He Wenyan. Characterictics of absorption edge of SiO2 films[J]. Opto-Electronic Engineering, 2019, 46(4): 18022010.

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