光学 精密工程, 2016, 24 (10): 2357, 网络出版: 2016-11-23   

拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势

Current status and trends of stitching interferometry in synchrotron radiation field
作者单位
中国科学院 高能物理研究所 北京同步辐射装置X射线光学与技术实验室,北京 100049
引用该论文

刘丁枭, 盛伟繁, 王秋实, 李明. 拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势[J]. 光学 精密工程, 2016, 24(10): 2357.

LIU Ding-xiao, SHENG Wei-fan, WANG Qiu-shi, LI Ming. Current status and trends of stitching interferometry in synchrotron radiation field[J]. Optics and Precision Engineering, 2016, 24(10): 2357.

引用列表
1、 对基于拼接干涉术的同步辐射镜测量技术的研究红外与激光工程, 2020, 49 (3): 303012
2、 子孔径拼接干涉的快速调整及测量光学 精密工程, 2017, 25 (10): 2682

刘丁枭, 盛伟繁, 王秋实, 李明. 拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势[J]. 光学 精密工程, 2016, 24(10): 2357. LIU Ding-xiao, SHENG Wei-fan, WANG Qiu-shi, LI Ming. Current status and trends of stitching interferometry in synchrotron radiation field[J]. Optics and Precision Engineering, 2016, 24(10): 2357.

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