光学 精密工程, 2016, 24 (10): 2357, 网络出版: 2016-11-23
拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势
Current status and trends of stitching interferometry in synchrotron radiation field
基本信息
| DOI: | 10.3788/ope.20162410.2357 |
| 中图分类号: | TH744.3 |
| 栏目: | 现代应用光学 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金青年基金资助项目(No.11005123) |
| 收稿日期: | 2016-08-10 |
| 修改稿日期: | 2016-08-26 |
| 网络出版日期: | 2016-11-23 |
| 通讯作者: | 刘丁枭 (liudx@ihep.ac.cn) |
| 备注: | -- |
刘丁枭, 盛伟繁, 王秋实, 李明. 拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势[J]. 光学 精密工程, 2016, 24(10): 2357. LIU Ding-xiao, SHENG Wei-fan, WANG Qiu-shi, LI Ming. Current status and trends of stitching interferometry in synchrotron radiation field[J]. Optics and Precision Engineering, 2016, 24(10): 2357.
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