光学学报, 2018, 38 (10): 1031001, 网络出版: 2019-05-09
溶液法制备氧化锡薄膜及光学特性研究 
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Fabrication and Optical Properties of Tin Oxide Thin Films by Solution Process
图 & 表
图 1. 不同功率等离子处理基底的氧化锡薄膜白光干涉仪成像图(边缘)。(a)未处理;(b) 12.5 W;(c) 25.0 W;(d) 37.5 W;(e) 50.0 W
Fig. 1. White light interference images of tin oxide films with substrates treated by plasma with different powers (edge). (a) Untreated; (b) 12.5 W; (c) 25.0 W; (d) 37.5 W; (e) 50.0 W
图 2. 薄膜边缘沉积峰高度和基底表面张力随等离子处理功率的变化曲线
Fig. 2. Deposition peak height at thin film edge and substrate surface tension versus plasma treatment power
图 3. 不同功率等离子处理基底的氧化锡薄膜表面形貌(中央)。(a) 未处理; (b) 12.5 W; (c) 25.0 W; (d) 37.5 W; (e) 50.0 W
Fig. 3. Surface morphologies of tin oxide films with substrates treated by plasma with different powers (center). (a) Untreated; (b) 12.5 W; (c) 25.0 W; (d) 37.5 W; (e) 50.0 W
图 4. 不同退火温度下的氧化锡薄膜的红外透射光谱
Fig. 4. FTIR spectra of tin oxide films under different annealing temperatures
图 5. 不同温度退火的氧化锡薄膜的XRD图谱
Fig. 5. XRD patterns of tin oxide films under different annealing temperatures
图 6. 不同退火温度的氧化锡薄膜的表面形貌。(a) 未处理; (b) 300 ℃; (c) 400 ℃; (d) 500 ℃
Fig. 6. Surface morphologies of tin oxide films under different annealing temperatures. (a) Untreated; (b) 300 ℃; (c) 400 ℃; (d) 500 ℃
图 7. 不同退火温度的氧化锡薄膜的紫外-可见光透射光谱
Fig. 7. UV-Vis transmission spectra of tin oxide films under different annealing temperatures
图 8. 不同退火温度的氧化锡薄膜的Tauc图。(a) 未处理; (b) 300 ℃; (c) 400 ℃; (d) 500 ℃
Fig. 8. Tauc plots of tin oxide films under different annealing temperatures. (a) Untreated; (b) 300 ℃; (c) 400 ℃; (d) 500 ℃
王佳良, 刘贤哲, 邓宇熹, 袁炜键, 周尚雄, 张啸尘, 姚日晖, 宁洪龙, 彭俊彪. 溶液法制备氧化锡薄膜及光学特性研究[J]. 光学学报, 2018, 38(10): 1031001. Jialiang Wang, Xianzhe Liu, Yuxi Deng, Weijian Yuan, Shangxiong Zhou, Xiaochen Zhang, Rihui Yao, Honglong Ning, Junbiao Peng. Fabrication and Optical Properties of Tin Oxide Thin Films by Solution Process[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(10): 1031001.
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