红外, 2014, 35 (7): 24, 网络出版: 2014-07-22
基于常温磁控溅射法的二氧化钒薄膜制备方法研究
Vanadium Dioxide Thin Film Prepared by Magnetron Sputtering at Room Temperature
基本信息
| DOI: | 10.3969/j.issn.1672-8785.2014.07.006 |
| 中图分类号: | O482 |
| 栏目: | 研究论文 |
| 项目基金: | 上海市科委纳米科技项目(11nm0502100、 12nm0502900)；上海市科委基础重点项目(13JC1405902)；上海市科委研发平台专项(12dz2293600)；上海市特种光纤与光接入网重点实验室开放课题项目(SKLSFO2011-03) |
| 收稿日期: | 2014-05-07 |
| 修改稿日期: | -- |
| 网络出版日期: | 2014-07-22 |
| 通讯作者: | 刘星星 (xxliu@mail.sitp.ac.cn) |
| 备注: | -- |
刘星星. 基于常温磁控溅射法的二氧化钒薄膜制备方法研究[J]. 红外, 2014, 35(7): 24. LIU Xing-xing. Vanadium Dioxide Thin Film Prepared by Magnetron Sputtering at Room Temperature[J]. INFRARED, 2014, 35(7): 24.
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