激光与光电子学进展, 1982, 19 (7): 37, 网络出版: 2013-07-26
离子注入和激光退火
摘要
近年来，激光退火与离子注入技术相结合已在半导体和金属物理领域中获得应用。讨论了激光与固体表面相互作的物理机制。报道了有关激光照射前放射性原子注入到表面的扩散的研究情况。本文报道了激光退火的现状，这种工艺过程对于辐射损伤无定形硅重结晶的重要性以及在半导体物理中的应用前景。
Abstract
参考文献
俞誉福. 离子注入和激光退火[J]. 激光与光电子学进展, 1982, 19(7): 37. 俞誉福. [J]. Laser & Optoelectronics Progress, 1982, 19(7): 37.
PDF全文
