激光与光电子学进展, 2019, 56 (3): 031601, 网络出版: 2019-07-31
强辐照下光子晶体红外隐身薄膜的隐身特性 
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Preparation and Characteristics of Middle and Far Infrared Stealth of Photonic Crystal Film under Intense Irradiation
基本信息
| DOI: | 10.3788/LOP56.031601 |
| 中图分类号: | O436 |
| 栏目: | 材料 |
| 项目基金: | “十三五”计划预研项目（HJJ2017-0671）、 |
| 收稿日期: | 2018-08-02 |
| 修改稿日期: | 2018-08-23 |
| 网络出版日期: | 2019-07-31 |
| 通讯作者: | 时家明 (sjmeei@yahoo.com.cn) |
| 备注: | -- |
刘瑞煌, 时家明, 赵大鹏, 张继魁, 刘志伟. 强辐照下光子晶体红外隐身薄膜的隐身特性[J]. 激光与光电子学进展, 2019, 56(3): 031601. Ruihuang Liu, Jiaming Shi, Dapeng Zhao, Jikui Zhang, Zhiwei Liu. Preparation and Characteristics of Middle and Far Infrared Stealth of Photonic Crystal Film under Intense Irradiation[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2019, 56(3): 031601.
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