激光与光电子学进展, 2019, 56 (3): 031601, 网络出版: 2019-07-31   

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Preparation and Characteristics of Middle and Far Infrared Stealth of Photonic Crystal Film under Intense Irradiation
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国防科技大学电子对抗学院脉冲功率激光技术国家重点实验室, 安徽 合肥 230037
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刘瑞煌, 时家明, 赵大鹏, 张继魁, 刘志伟. 强辐照下光子晶体红外隐身薄膜的隐身特性[J]. 激光与光电子学进展, 2019, 56(3): 031601. Ruihuang Liu, Jiaming Shi, Dapeng Zhao, Jikui Zhang, Zhiwei Liu. Preparation and Characteristics of Middle and Far Infrared Stealth of Photonic Crystal Film under Intense Irradiation[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2019, 56(3): 031601.

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