中国激光, 2018, 45 (1): 0103003, 网络出版: 2018-01-24
氮δ掺杂Cu2O薄膜的生长及物性研究 下载: 692次
Research on Growth and Physical Properties of N δ-doped Cu2O Films
基本信息
DOI: | 10.3788/CJL201845.0103003 |
中图分类号: | O484 |
栏目: | 材料与薄膜 |
项目基金: | 国家自然科学基金(61404009)、吉林省科技发展计划(20170520118JH)、长春理工大学科技创新基金(XJJLG-2016-14) |
收稿日期: | 2017-08-07 |
修改稿日期: | 2017-09-13 |
网络出版日期: | 2018-01-24 |
通讯作者: | 李微 (871522263@qq.com) |
备注: | -- |
李微, 潘景薪, 王登魁, 方铉, 房丹, 王新伟, 唐吉龙, 王晓华, 孙秀平. 氮δ掺杂Cu2O薄膜的生长及物性研究[J]. 中国激光, 2018, 45(1): 0103003. Li Wei, Pan Jingxin, Wang Dengkui, Fang Xuan, Fang Dan, Wang Xinwei, Tang Jilong, Wang Xiaohua, Sun Xiuping. Research on Growth and Physical Properties of N δ-doped Cu2O Films[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(1): 0103003.