中国激光, 2016, 43 (12): 1205001, 网络出版: 2016-12-09
扫描干涉场曝光光束自动对准及其收敛性分析
Beam Alignment and Convergence Analysis of Scanning Beam Interference Lithography Systems
基本信息
| DOI: | 10.3788/cjl201643.1205001 |
| 中图分类号: | O436.1 |
| 栏目: | 光束传输与控制 |
| 项目基金: | 国家重大科研装备研制项目（61227901） |
| 收稿日期: | 2016-08-16 |
| 修改稿日期: | 2016-09-08 |
| 网络出版日期: | 2016-12-09 |
| 通讯作者: | 王玮 (wayne_lzu@163.com) |
| 备注: | -- |
王玮, 巴音贺希格, 宋莹, 姜珊, 潘明忠. 扫描干涉场曝光光束自动对准及其收敛性分析[J]. 中国激光, 2016, 43(12): 1205001. Wang Wei, Bayanheshig, Song Ying, Jiang Shan, Pan Mingzhong. Beam Alignment and Convergence Analysis of Scanning Beam Interference Lithography Systems[J]. Chinese Journal of Lasers, 2016, 43(12): 1205001.
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