光电工程, 2009, 36 (5): 52, 网络出版: 2009-10-09
双光谱法实现光刻工艺中的胶厚检测
Two-spectrum Method for Measuring the Thickness of Photoresist in Lithography Techniques
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | TN247 |
| 栏目: | 微光学 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金资助课题(60678037)；航空科学基金(20070112001)资助课题。 |
| 收稿日期: | 2008-10-14 |
| 修改稿日期: | 2009-01-22 |
| 网络出版日期: | 2009-10-09 |
| 通讯作者: | 张春晖 (zchui3232@163.com) |
| 备注: | -- |
张春晖, 陈龙江, 梁宜勇, 杨国光. 双光谱法实现光刻工艺中的胶厚检测[J]. 光电工程, 2009, 36(5): 52. ZHANG Chun-hui, CHEN Long-jiang, LIANG Yi-yong, YANG Guo-guang. Two-spectrum Method for Measuring the Thickness of Photoresist in Lithography Techniques[J]. Opto-Electronic Engineering, 2009, 36(5): 52.
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