光学技术, 2013, 39 (5): 413, 网络出版: 2013-09-25
模拟光刻中双层衰减相移接触孔衍射的理论公式
Formulation for simulating the bi-layer attenuated phase shift contact hole diffraction in lithography
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | O 436;TN 214 |
| 栏目: | 物理光学 |
| 项目基金: | 国家自然基金重点项目和国家中长期科技重大专项(F050809/60938003) |
| 收稿日期: | 2013-04-01 |
| 修改稿日期: | -- |
| 网络出版日期: | 2013-09-25 |
| 通讯作者: | 杨亮 (yangliang_BIT@163.com) |
| 备注: | -- |
杨亮, 李艳秋, 刘克, 刘丽辉. 模拟光刻中双层衰减相移接触孔衍射的理论公式[J]. 光学技术, 2013, 39(5): 413. YANG Liang, LI Yanqiu, LIU Ke, LIU Lihui. Formulation for simulating the bi-layer attenuated phase shift contact hole diffraction in lithography[J]. Optical Technique, 2013, 39(5): 413.
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