光学技术, 2013, 39 (5): 413, 网络出版: 2013-09-25
模拟光刻中双层衰减相移接触孔衍射的理论公式
Formulation for simulating the bi-layer attenuated phase shift contact hole diffraction in lithography
物理光学 光刻 法向矢量 散射矩阵 严格耦合波法 接触孔 physical optics lithography normal vector scattering-matrix approach RCWA contact hole
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