光学学报, 2017, 37 (2): 0222002, 网络出版: 2017-02-13
极紫外光刻动态气体锁抑制率的实验研究
Experimental Research on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock for Extreme Ultraviolet Lithography
基本信息
| DOI: | 10.3788/aos201737.0222002 |
| 中图分类号: | TN23;O439 |
| 栏目: | 光学设计与制造 |
| 项目基金: | 国家科技重大专项（2012ZX02702007） |
| 收稿日期: | 2016-09-08 |
| 修改稿日期: | 2016-10-09 |
| 网络出版日期: | 2017-02-13 |
| 通讯作者: | 陈进新 (ashion@aoe.ac.cn) |
| 备注: | -- |
陈进新, 王宇, 谢婉露. 极紫外光刻动态气体锁抑制率的实验研究[J]. 光学学报, 2017, 37(2): 0222002. Chen Jinxin, Wang Yu, Xie Wanlu. Experimental Research on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock for Extreme Ultraviolet Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2017, 37(2): 0222002.
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