基于多染色体遗传算法的像素化光源掩模优化方法

杨朝兴; 李思坤; 王向朝

doi:doi:10.3788/aos201636.0811001

光学学报, 2016, 36 (8): 0811001, 网络出版: 2016-08-18

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Pixelated Source Mask Optimization Based on Multi Chromosome Genetic Algorithm

杨朝兴 ^1,2,*李思坤 ^1,2王向朝 ^1,2

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室，上海 201800

² 中国科学院大学，北京 100049

引用该论文

杨朝兴, 李思坤, 王向朝. 基于多染色体遗传算法的像素化光源掩模优化方法[J]. 光学学报, 2016, 36(8): 0811001.

Yang Chaoxing, Li Sikun, Wang Xiangzhao. Pixelated Source Mask Optimization Based on Multi Chromosome Genetic Algorithm[J]. Acta Optica Sinica, 2016, 36(8): 0811001.

引用列表

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2、计算光刻研究及进展激光与光电子学进展, 2022, 59 (9): 0922008

3、深紫外计算光刻技术研究激光与光电子学进展, 2022, 59 (9): 0922007

4、基于光刻胶三维形貌的光刻多参数联合优化方法光学学报, 2020, 40 (4): 422002

5、基于非正交二元相位板的多焦点阵列光镊光学学报, 2019, 39 (7): 0714003

6、一种多视觉测量组网规划策略光学学报, 2018, 38 (5): 0515005

杨朝兴, 李思坤, 王向朝. 基于多染色体遗传算法的像素化光源掩模优化方法[J]. 光学学报, 2016, 36(8): 0811001. Yang Chaoxing, Li Sikun, Wang Xiangzhao. Pixelated Source Mask Optimization Based on Multi Chromosome Genetic Algorithm[J]. Acta Optica Sinica, 2016, 36(8): 0811001.

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