光学学报, 2016, 36 (8): 0811001, 网络出版: 2016-08-18
基于多染色体遗传算法的像素化光源掩模优化方法 
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Pixelated Source Mask Optimization Based on Multi Chromosome Genetic Algorithm
基本信息
| DOI: | 10.3788/aos201636.0811001 |
| 中图分类号: | TN305.7 |
| 栏目: | 成像系统 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金（61275207，61205102， 61405210，61474129） |
| 收稿日期: | 2016-02-02 |
| 修改稿日期: | 2016-03-30 |
| 网络出版日期: | 2016-08-18 |
| 通讯作者: | 杨朝兴 (yangcoloy@siom.ac.cn) |
| 备注: | -- |
杨朝兴, 李思坤, 王向朝. 基于多染色体遗传算法的像素化光源掩模优化方法[J]. 光学学报, 2016, 36(8): 0811001. Yang Chaoxing, Li Sikun, Wang Xiangzhao. Pixelated Source Mask Optimization Based on Multi Chromosome Genetic Algorithm[J]. Acta Optica Sinica, 2016, 36(8): 0811001.
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