多聚焦极栅控电子模拟源的研究

强鹏飞; 李林森; 刘舵; 刘永安; 盛立志; 赵宝升

doi:doi:10.3788/gzxb20164504.0423005

光子学报, 2016, 45 (4): 0423005, 网络出版: 2016-05-11

多聚焦极栅控电子模拟源的研究

Gird-control Electron Gun with Multiple Focusing Electrode

论文大纲

强鹏飞 ^1,*李林森 ^1,2刘舵 ^1,2刘永安 ¹盛立志 ¹赵宝升 ¹

作者单位

¹ 中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术国家重点实验室，西安 710119

² 中国科学院大学，北京 100049

摘要

采用电子光学软件设计模拟了一种长焦距多聚焦级的电子枪结构.利用电子透镜原理分析多聚焦极电子枪的电子束斑产生，依据不同栅控电压，分析零场模式、拒斥场模式和肖特基场模式3种阴极电子发射方式下电子聚焦情况.模拟结果表明：拒斥场模式和肖特基场模式对电子束流密度分别有减弱和增强的作用；当聚焦极电压比U1∶U2∶U3∶U4∶U5=5∶8∶15∶70∶100时，能量为30 keV的电子束焦斑最小，在10 m处焦斑大小为160 mm.

Abstract

An electron gun with multiple focus system was designed, and a smaller beam spot was obtained in the computer simulation technology. The different cathode emission models would be actived when different voltage was load on the gird electrode, and which affects the number of electrons emitted from cathode significantly, the number of electrons would increase and decrease under the Schottky emission and Rejecting-field emission mode. When voltage of focusing electrodes is U1∶U2∶U3∶U4∶U5=5∶8∶15∶70∶100, the spot size of 160 mm at the distance of 10 m was acquired in the electron gun model.

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