强激光与粒子束, 2016, 28 (6): 064109, 网络出版: 2016-04-12
响应面方法的硅刻蚀工艺优化分析
Optimization of silicon etching process using response surface method
知识挖掘
相关论文
2024年
2024年
2024年
2023年
2023年
2023年
2023年
2023年
2023年
2012年
本文相似领域研究进展,
知识服务
本文主要研究领域论文发表情况:
721篇
298篇
19篇
18篇
1篇
1篇
本文研究领域论文发表情况(统计图):
付文婷, 梁峭, 崔可夫, 石天立, 张娜, 郑东明, 唐慧, 孙海玮. 响应面方法的硅刻蚀工艺优化分析[J]. 强激光与粒子束, 2016, 28(6): 064109. Fu Wenting, Liang Qiao, Cui Kefu, Shi Tianli, Zhang Na, Zheng Dongming, Tang Hui, Sun Haiwei. Optimization of silicon etching process using response surface method[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2016, 28(6): 064109.