光学学报, 2014, 34 (s2): s231001, 网络出版: 2014-11-19
不同沉积温度下单纯蒸镀二氧化硅薄膜的光学特性研究 下载: 507次
Study on the Optical Characteristic of Silicon Dioxide Thin Films Deposited in Different Temperatures
基本信息
DOI: | 10.3788/aos201434.s231001 |
中图分类号: | O484.4 |
栏目: | 薄膜 |
项目基金: | 上海市自然科学基金青年项目(13ZR1463700) |
收稿日期: | 2014-06-15 |
修改稿日期: | 2014-07-15 |
网络出版日期: | 2014-11-19 |
通讯作者: | 罗海瀚 (haihan.luo@mail.sitp.ac.cn) |
备注: | -- |
罗海瀚, 蔡清元, 李耀鹏, 刘定权. 不同沉积温度下单纯蒸镀二氧化硅薄膜的光学特性研究[J]. 光学学报, 2014, 34(s2): s231001. Luo Haihan, Cai Qingyuan, Li Yaopeng, Liu Dingquan. Study on the Optical Characteristic of Silicon Dioxide Thin Films Deposited in Different Temperatures[J]. Acta Optica Sinica, 2014, 34(s2): s231001.