激光与光电子学进展, 2011, 48 (1): 011601, 网络出版: 2010-12-13
GH4033基材相对稀释率的仿真研究
Simulation on Substrate Relative Dilution Ratio for GH4033
基本信息
DOI: | 10.3788/lop48.011601 |
中图分类号: | TF124.85 |
栏目: | 材料 |
项目基金: | 南京航空航天大学研究生创新基地(实验室)开放基金(200902011)和航空科学基金(2010ZE52056)资助课题。 |
收稿日期: | 2010-09-19 |
修改稿日期: | 2010-09-25 |
网络出版日期: | 2010-12-13 |
通讯作者: | 陈刚 (junioreaglet@163.com) |
备注: | -- |
陈刚, 黎向锋, 左敦稳, 王宏宇, 张敏. GH4033基材相对稀释率的仿真研究[J]. 激光与光电子学进展, 2011, 48(1): 011601. Chen Gang, Li Xiangfeng, Zuo Dunwen, Wang Hongyu, Zhang Min. Simulation on Substrate Relative Dilution Ratio for GH4033[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2011, 48(1): 011601.