激光与光电子学进展, 2011, 48 (1): 011601, 网络出版: 2010-12-13   

GH4033基材相对稀释率的仿真研究

Simulation on Substrate Relative Dilution Ratio for GH4033
作者单位
1 南京航空航天大学机电学院,江苏 南京 210016
2 江苏大学机械工程学院,江苏 镇江 212013
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陈刚, 黎向锋, 左敦稳, 王宏宇, 张敏. GH4033基材相对稀释率的仿真研究[J]. 激光与光电子学进展, 2011, 48(1): 011601. Chen Gang, Li Xiangfeng, Zuo Dunwen, Wang Hongyu, Zhang Min. Simulation on Substrate Relative Dilution Ratio for GH4033[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2011, 48(1): 011601.

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